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通过构建全球营销服务与基础设施,
培养新的增长动力

  • 材料技术的领跑者,

    特种气体的全球领军者

    凭借自主核心技术与持续研发创新，为特
    种气体材料提供解决方案

    晓星Neochem紧跟半导体及显示产业的技术发展路线图，为率先向客户提
    供先进材料解决方案，研发、销售及生产团队紧密协作，快速响应产业发展
    趋势与客户需求。

    作为全球专业特种气体供应商，公司为客户提供多样化的高品质产品。
    凭借自主技术开发能力及持续创新研发投入，公司成功自主开发并实现高纯
    度三氟化氮（NF₃）的量产化。


    公司拥有包括20% F₂/N₂混合气（F₂/N₂）、重氢（D₂）、丙烯（C₃H₆）、
    氯气（Cl₂）、氯化氢（HCl）等在内的丰富特种气体产品组合。依托韩国龙
    渊、玉山以及中国衢州等多元化生产基地，建立了稳定的供应体系。


    公司成功自主开发并实现高纯度三氟化氮（NF₃）的量产化。公司拥有包括2
    0%氟氮混合气（F₂/N₂）、重氢（D₂）、丙烯（C₃H₆）、氯气（Cl₂）、氯
    化氢（HCl）等在内的丰富特种气体产品组合。

Product

NF3（三氟化氮）

三氟化氮（NF₃）以氢氟酸和氨为主要原料生产。凭借自主电解技术与先进的深冷精制工艺， 晓星Neochem成功实现纯度达5N（99.999%）高纯度NF₃的稳定生产。作为半导体及显示产业的重要电子材料， NF₃主要应用于CVD反应腔体清洗及半导体蚀刻工艺。其卓越的清洗效率和稳定的工艺性能， 有助于提升先进制造工艺的生产效率和产品良率。

20%F2/N2

通过电解工艺生产高纯度F₂（氟气），并将其与高纯度N₂（氮气）混合，自主生产高纯度 20%F₂/N₂ 产品。 20%F₂/N₂ 主要用于半导体 LP-CVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition， 低压化学气相沉积） 设备腔体（Chamber）的清洗工艺。

D2

在稳定 原料重水（D₂O）供应的基础上，通过电解工艺及精制提纯工艺生产高纯度D₂产品。 D₂主要应用于半导体器件退火（Annealing）工艺，可降低器件界面缺陷，提高器件可靠性。

其他特种气体

用于环丙烯:(C3H6): 用于半导体光刻工艺中硬掩膜(Hard Mask) ACL沉积的高纯度材料
HF Coolant: 用于半导体刻蚀设备及数据中心服务器高效热管理的冷却介质
C4F7N: 应保型电力设备的新一代绝缘气体
Cl2, HCl, N2O 等。